1. 대표도

2. 발명의 명칭

반도체 가공 장치를 진단하는 진단 시스템 및 그것의 제어 방법(diagnostic system for diagnosing semiconductor processing equipment and control method thereof)

3. 출원번호 / 출원일자

2020-0174162 / 2020.12.14

4. 등록번호 / 등록일자

2268290 / 2021.06.17

5. 요약

본 발명은 웨이퍼를 가공하는 반도체 가공 장치에 대한 상태를 진단할 수 있는 반도체 가공 장치를 진단하는 진단 시스템 및 그것의 제어 방법에 관한 것이다. 상기 진단 시스템은 플라즈마를 이용하여 웨이퍼를 가공하는 반도체 가공 장치에 연결되어 센서 정보를 생성하는 하나 또는 그 이상의 센서들로부터 상기 센서 정보를 수신하는 통신부 및 상기 센서 정보를 이용하여 반도체 가공 공정을 진단하는 진단 정보를 생성하는 제어부를 포함한다.