1. 대표도

2. 발명의 명칭

플라즈마 공정 중 발생하는 아크 현상을 모니터링하기 위한 rf 신호 모니터링 장치 및 시스템(rf signal monitoring apparatus and system for monioring an arc event generated in a plasma process)

3. 출원번호 / 출원일자

2020-0171629 / 2020.12.09

4. 등록번호 / 등록일자

2208819 / 2021.01.22

5. 요약

본 발명에 따른 RF 신호 모니터링 시스템으로서, 플라즈마 처리장치의 챔버 내에 기판이 배치되는 하부 전극에 연결되어, 상부 전극으로부터 발생되어 기판에 영향을 주는 RF 신호의 특성값을 센싱하도록 구성된 RF 센서, 및 상기 RF 센서와 연결되어, 상기 RF 센서로부터 센싱되는 RF 신호의 이상 또는 변화 여부를 모니터링하도록 구성된 RF 신호 모니터링 장치를 포함하고, 상기 RF 신호 모니터링 장치는, 상기 RF 센서로부터 센싱되는 RF 신호의 특성값을 디스플레이 상에 시계열 데이터 또는 이미지 데이터의 신호 패턴으로 출력하도록 구성된 RF 출력부, 시계열 데이터 또는 이미지 기반의 딥 네트워크를 이용하여 미리 학습된 RF 신호 패턴 모델을 기초로 상기 RF 출력부에 출력되는 RF 신호 패턴을 검출하고, 검출된 신호 패턴에서의 이상 또는 변화를 검출하도록 구성된 검출부, 상기 RF 신호 패턴에서 이상 또는 변화가 검출되는 경우, 이상 또는 변화가 검출된 지점의 RF 신호의 특성값을 추출하도록 구성된 추출부, 및 상기 이상 또는 변화가 검출된 지점의 RF 신호의 특성값은 이상 데이터로서 저장하고 관리하도록 구성된 데이터관리부를 포함한다.